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厦门大学九江研究院仪器预约管理系统
仪器预约系统
光电探测器光谱响应度标定系统。
光电探测器是利用具有光电效应的材料制成的将光辐射信号转变成电信号的传感器。
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LFA 467 HyperFlash – 闪射法导热仪。
丰富的测量模式，适应各种类型的样品。如各向异性材料，多层模式分析，薄膜，纤维，液体，膏状物，粉末，熔融金属，压力下的测试，等等。
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扫描电子显微镜 Scanning Electronic Microscope (SEM)。
提供高分辨率和衬度，满足材料研究需要卓越性能，更高的准确度。用于材料形貌分析、能谱分析。
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G-CVD石墨烯化学气相沉积系统。
实现大面积单层石墨烯快速制备，选用合适衬底，以及衬底改性方法，攻克高良品率石墨烯转移技术，采用激光振镜直写烧蚀方法，实现石墨烯大面积快速图形制作，解决石墨烯掺杂。
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DEKTAKXT探针式轮廓仪。
实现垂直高度重复性高达4埃；实现了纳米尺度的表面轮廓测量，可以广泛的应用于微电子器件，半导体，电池，高亮度发光二极管的研发以及材料科学领域。
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全自动比表面和孔隙度分析仪。
全自动4站物理吸附，外比表面（STSA），微孔面积，微孔体积，平均吸附能，统计厚度，超临界吸附分析，计算分形维数，判断孔型，具有全部孔分析模型。
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紫外可见分光光度计。
薄膜、固体样品反射率、透射率、吸光度。
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X射线单晶薄膜衍射仪。
晶格参数、失配、应力，外延薄膜的厚度，材料化学配比，晶粒尺寸。
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椭圆偏振光谱仪。
通过测量样品表面反射及后期建模拟合，无损伤获得多层薄膜厚度，折射率，消光系数等信息。
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透射电子显微镜。
生物样品、高分析材料的高反差形貌观察和微区的晶体结构，无选区衍射，无能谱分析。
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金属有机物化学气相沉积系统MOCVD。
各种主要类型的化合物半导体器件制作中都用到了MOCVD技术。
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感应耦合等离子体ICP刻蚀机。
刻蚀可以处理三五族化合物半导体、硅、介质层、聚合物、光刻胶等。
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无掩模激光直写设备。
光刻掩膜的制作，可用于电子、光学器件的制作。
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扫描探针显微镜。
材料样品表面微观形貌观察和粗糙度分析。
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扫描电子显微镜简介。
表面形貌分析、截面分析、定量、定性分析元素含量。
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Witec拉曼光谱测试系统 （Raman）。
材料样品化学成分与物理特性分析。
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超高真空化学气相沉积系统。
高质量硅基 SiGe 赝衬底、纯 Ge 材料外延生长；GeSn材料的制备及其光电器件的研究；SOI 基高速、窄谱带响应长波长Ge光电探测器研究；硅基材料的高效率发光新结构、新材料研究。
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高精度电子束真空镀膜系统（E-BEAM）。
蒸镀各种光学薄膜，包括高反射膜、高透射膜、多层膜等。
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